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• 產(chǎn)品名稱(chēng)：RC-666環(huán)保鍍銅
• 產(chǎn)品分類(lèi)：鍍銅
• 產(chǎn)品應用：25KG/桶，5Kg/桶

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RC-666環(huán)保鍍銅

   RC-666環(huán)保鍍銅

一、特點(diǎn)

1、不含氰化鈉及氰化亞銅、不含磷，符合環(huán)保要求。

2、本產(chǎn)品與氰化鍍銅溶液兼容，即可以在氰化銅鍍液基礎上直接轉缸。

3、適合于鋅合金、鋁合金、釹鐵硼及鋼基材的打底鍍層。

4、易操作，滾鍍及掛鍍皆宜。

二、溶液組成及操作條件

三、生產(chǎn)維護

1、生產(chǎn)過(guò)程中銅離子控制在8-12克/升，銅離子含量可采用化學(xué)分析來(lái)測定，并通過(guò)    調節石墨陽(yáng)極與電解銅的陽(yáng)極面積比例來(lái)進(jìn)行管控。

2、RC-666A環(huán)保鍍銅開(kāi)缸劑只在新開(kāi)槽時(shí)使用，日常生產(chǎn)只需添加RC-666B環(huán)保鍍銅補充劑。

3、RC-666B環(huán)保鍍銅補充劑可通過(guò)分析補充，。

4、pH值控制：調高pH用10%氫氧化鉀溶液，調低pH用酒石酸。

5、銅離子不足時(shí)，鍍層高區粗糙，沉積速度下降，可通過(guò)提高電解銅陽(yáng)極面積比例來(lái)提高銅離子濃度。

6、銅離子過(guò)量時(shí)，鍍層低區粗糙，可適量補充RC-666B環(huán)保鍍銅補充劑。

7、RC-666B不足時(shí)，鍍層低區粗糙，可適量補充RC-666B環(huán)保鍍銅補充劑。

8、RC-666B過(guò)量時(shí)，沉積速度下降，可適量提高銅離子濃度。

9、若因前序工序或原材料帶入的異金屬或有機物雜質(zhì)，造成鍍層發(fā)暗發(fā)灰，可以用活性炭處理，。

四、儲存

   存放于陰涼干燥處，不得與強酸性物質(zhì)混放；高溫下或遇強酸性物質(zhì)會(huì )發(fā)生反應，生成有毒害物質(zhì)。

五、廢水處理

1、廢水排放按常規破絡(luò )合劑方法進(jìn)行處理，詳細方案請咨詢(xún)本公司技術(shù)部。

2、未經(jīng)處理廢水不得與強酸性物質(zhì)混排，否則會(huì )發(fā)生化學(xué)反應生成有毒害物質(zhì)。

3、泄露應急處理：發(fā)生廢水泄露時(shí)，用適量氯酸鈣或硫酸亞鐵充分反應后排放至廢水池。

注：RC-666A、RC-666B存放期間產(chǎn)生分層、沉淀或變色，屬正?，F象，搖勻后使用，不影響效果。