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工藝特點(diǎn)

循環(huán)壽命長(cháng),可達8-10個(gè)循環(huán)(Metal Turn Over),[循環(huán)含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補加到開(kāi)缸時(shí)的鎳含量稱(chēng)為一個(gè)循環(huán),一個(gè)循環(huán)至少可沉積鍍層900dm2·μm];

鍍速可達20-22μm/h;

深鍍能力強、均鍍能力強,完全達到仿型效果;

硬度高、耐腐蝕能力強;

鍍層孔隙率低,10μm無(wú)孔隙;

耐磨性好,優(yōu)于電鍍鉻;

可焊性好,能夠被焊料所潤濕;

電磁屏蔽性能好,可用于電子元件及計算機硬盤(pán);

鍍層為非晶態(tài),非磁性Ni-P合金

2.鍍層特點(diǎn)

磷含量:6-9%(wt);                       電阻率:60-75μΩ·cm;
密度:7.6-7.9g/cm3;                       熔點(diǎn):860-880;
硬度:鍍態(tài):Hv 500-550(45-48RCH);

結合力:有鋼上400MPa遠高于電鍍;
熱處理后:Hv1000;                 內應力:鋼上內應力低于7MPa
3.鍍液組成及操作條件:

原料及操作

單位

范圍

NICHEM 2010A

%v/v

50

NICHEM 2010B

%v/v

150

pH


4.6-4.8

溫度

85-9087

裝載量

dm2/L

0.5-2.51.5

時(shí)間

視厚度而定

視厚度而定

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